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SiO2薄膜热应力模拟计算

吴靓臻 唐吉玉 马远新 孔蕴婷 文于华 陈俊芳

吴靓臻, 唐吉玉, 马远新, 孔蕴婷, 文于华, 陈俊芳. SiO2薄膜热应力模拟计算[J]. 华南师范大学学报(自然科学版), 2009, 1(1): 52-55 .
引用本文: 吴靓臻, 唐吉玉, 马远新, 孔蕴婷, 文于华, 陈俊芳. SiO2薄膜热应力模拟计算[J]. 华南师范大学学报(自然科学版), 2009, 1(1): 52-55 .
linco wu, . Simulation of Thermal Stress in SiO2 Thin Film[J]. Journal of South China normal University (Natural Science Edition), 2009, 1(1): 52-55 .
Citation: linco wu, . Simulation of Thermal Stress in SiO2 Thin Film[J]. Journal of South China normal University (Natural Science Edition), 2009, 1(1): 52-55 .

SiO2薄膜热应力模拟计算

Simulation of Thermal Stress in SiO2 Thin Film

  • 摘要: 摘要:薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.本文采用有限元模型对SiO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.同时计算了薄膜热应力的大小和分布,分别分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋势图, 对薄膜现实生长具有一定的指导意义.
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-01-07
  • 修回日期:  2008-04-21
  • 刊出日期:  2009-02-25

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